Abstract
Fundo
selantes de superfície têm sido utilizados com sucesso na prevenção de desgaste dentário erosivo. No entanto, quando várias superfícies dos dentes deve ser selada, o processo de fotopolimerização é muito demorado. Portanto, o objetivo deste estudo foi investigar se a redução do tempo de fotopolimerizável (mantendo densidade de energia similar) tem uma influência sobre a citotoxicidade selante de superfície à base de resina
Métodos
discos de dentina bovinos foram tratados como se segue:. Grupo 1: sem tratamento, grupos 2-5: Seal & amp; proteger e grupos 6-9: cimento experimental. Grupos 2 e 6 foram fotopolimerizável (VALO dispositivo LED fotopolimerizador) durante 40 s (1.000 mW /cm
2), os grupos 3 e 7 para 10 s (1.000 mW /cm 2), grupos de 4 e 8 para 7 s (1.400 mW /cm 2) e os grupos 5 e 9 por 3 s (3200 mW /cm 2). Mais tarde, foram extraídos os materiais em meio de cultura durante 24 h, e libertado a actividade de lactato desidrogenase (LDH) como uma medida de citotoxicidade foi determinada fotometricamente após as células (células de polpa dentária e fibroblastos gengivais) foram expostas aos extractos durante 24 h. Três experimentos independentes, tanto para preparação de amostras e testes de citotoxicidade, foram realizadas.
Resultados
No geral, foi observada menor citotoxicidade para o grupo controle sem lacre. Não foi observada influência significativa de configurações de luz de cura sobre a citotoxicidade (p = 0,537 e 0,838 para as células da polpa e fibroblastos gengivais, respectivamente). Não foi observada diferença significativa na citotoxicidade dos dois vedantes após a fotopolimerização com mesmas definições fotopolimerizáveis (grupo 2 vs. 6, 3 x 7, 4 x 8 e 5 vs 9: p & gt; 0,05, respectivamente ).
Conclusões
Reduzir o tempo fotopolimerizável, mantendo a densidade de energia constante, não resultou em maior citotoxicidade dos selantes investigados.
Palavras-chave
tempo selante Dentine superfície de exposição à luz Resina citotoxicidade Florian J Wegehaupt , Tobias T Tauböck, Thomas Attin e Georgios N Belibasakis contribuíram igualmente para este trabalho
material suplementar Electrónicas
